光敏印章我国印章行业升级换代产品光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辐射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。光敏印章完全颠复了传统印章的凹凸成像原理，利用特殊感光材料制成，具有成像极其清晰、无需印泥、即印即干的特点。中文名光敏印章发明国家日本发明时间上世纪九十年代初...